[发明专利]铁电存储器及制造方法及包括铁电存储器的电子设备在审
申请号: | 202210090285.7 | 申请日: | 2022-01-25 |
公开(公告)号: | CN114512488A | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 王艳;党治伟;罗庆;吕舒贤;陈美文 | 申请(专利权)人: | 北京超弦存储器研究院;中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | H01L27/11502 | 分类号: | H01L27/11502;H01L27/11507;H01L49/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周天宇 |
地址: | 100176 北京市大兴区经*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开提供一种铁电存储器的制造方法,包括:在衬底上形成依次叠设的底电极和铁电层,其中,铁电层为掺杂的氧化铪基铁电层;在铁电层上形成顶电极,其中,所述顶电极为氮化钛材料的顶电极,在形成顶电极的过程中,通过调节氮气的流量,以调节顶电极中氮原子和钛原子的比率。该制造方法可以改善铁电存储器疲劳特性并提高铁电存储器的耐久性。本公开还提供一种铁电存储器及包括铁电存储器的电子设备。 | ||
搜索关键词: | 存储器 制造 方法 包括 电子设备 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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