[发明专利]一种半导体器件的制备方法在审

专利信息
申请号: 202210021764.3 申请日: 2022-01-10
公开(公告)号: CN114464544A 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 严立巍;符德荣;陈政勋 申请(专利权)人: 绍兴同芯成集成电路有限公司
主分类号: H01L21/58 分类号: H01L21/58;H01L21/67;H01L23/29;B23K26/362
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 华枫
地址: 312000 浙江省绍兴*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提出了一种半导体器件的制备方法,包括:去除用于固定第一载盘和晶圆的聚亚酰胺;将晶圆从第一载盘转移至第二载盘;对晶圆的背面进行金属镀膜工艺;将晶圆的背面贴附至切割模框;在晶圆的正面采用蚀刻和激光工艺切割晶圆。根据本发明的半导体器件的制备方法,可以在第一载盘中完成晶圆正面元件的制备工艺,随后可以将晶圆转移至第二载盘,对背面晶圆进行金属镀膜工艺。当将晶圆转移至第二载盘时,晶圆正面的聚亚酰胺层可以起到缓冲保护晶圆的作用,在第二载盘的支撑下完成晶圆背面的金属镀膜工艺,随后再将晶圆背面贴附至切割模框,从晶圆的正面进行切割,制备方法合理高效,提高了晶圆的制备效率和加工质量。
搜索关键词: 一种 半导体器件 制备 方法
【主权项】:
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