[发明专利]一种高通量制备薄膜或涂层的方法

摘要

本发明涉及一种高通量制备薄膜或涂层的方法，在LCVD设备基础上加装光路控制系统，所述LCVD设备激光光源半径为r，所述加装光路控制系统包括沿激光入射方向设置的透镜组，激光通过透镜组在基板表面形成面积为S，半径为h的圆形束斑，其中h大于r，并且束斑从S中心到边缘温度逐渐均匀、有规律地降低，在基板表面获得稳定可控的大梯度温度场，采用LCVD工艺在基板表面实现高通量制备薄膜或涂层。本发明通过调整光路控制系统中透镜组的间距等参数控制基板温度环形梯度分布，快速制备大通量的薄膜或涂层，在单次试验中可获得多个不同生长条件下的样本，对制备所得的薄膜涂层材料的结构与组成进行表征，得到优化的实验参数。