[发明专利]一种掩模缺陷检测系统在审
| 申请号： | 202210009610.2 | 申请日： | 2022-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN114442423A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;马翔宇;尹皓玉;方旭晨;谢婉露;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F1/84 | 分类号： | G03F1/84 |
| 代理公司： | 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 | 代理人： | 谷波 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种掩模缺陷检测系统，包括：真空腔体和隔振平台，所述真空腔体位于所述隔振平台上方，还包括：激光器，用于作为系统光源产生激光；光束整形系统，用于对所述激光进行光束整形；退相干反射镜，用于实现对所述激光的退相干；光瞳转换轮，用于光瞳选择；波带片，用于对掩模上的缺陷进行成像，法兰，用于实现腔体之间的密封连接；四爪狭缝，用于对照明光斑的尺寸进行微调；所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内；所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰及四爪狭缝、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮，照射到掩模上进行掩模缺陷检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 缺陷 检测 系统 | ||
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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