[发明专利]一种掩模缺陷检测系统

权利要求书

1.一种掩模缺陷检测系统，包括：真空腔体和隔振平台，所述真空腔体位于所述隔振平台上方，其特征在于，还包括：

激光器，用于作为系统光源产生激光；

光束整形系统，用于对所述激光进行光束整形；

退相干反射镜，用于实现对所述激光的退相干；

光瞳转换轮，用于光瞳选择；

波带片，用于对掩模上的缺陷进行成像；

法兰，用于实现腔体之间的密封连接；

所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内；

所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮，照射到掩模上进行掩模缺陷检测。

2.根据权利要求1所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述光束整形系统采用KB镜，经过所述KB镜整形后的照明光斑尺寸为100～300um。

3.根据权利要求1所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，还包括：

四爪狭缝，位于法兰和所述退相干反射镜之间，用于对光束整形后的光进行光斑尺寸微调；

所述激光器产生的激光在穿过所述法兰后，再穿过所述四爪狭缝，以射入所述退相干反射镜。

4.根据权利要求3所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述退相干反射镜的反射面上具有周期性的阶梯或者凹槽形状的子反射面。

5.根据权利要求4所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述退相干反射镜设置退相干反射角度，以使得所述激光以不小于6°的照明入射角照射待检测掩模。

6.根据权利要求5所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述退相干反射镜为平面镜或球面镜。

7.根据权利要求1～6任一项中所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，还包括：摆动台；

所述退相干反射镜设置在所述摆动台上。

8.根据权利要求1～6任一项中所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述光瞳转换轮为圆形或者方形。

9.根据权利要求1～6任一项中所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述波带片为明场波带片或暗场波带片。

10.根据权利要求8所述的掩模缺陷检测系统，其特征在于，所述光瞳转换轮具有常规照明、环形照明、垂直双极照明、水平双极照明、四极照明、不对称的四极照明光瞳转换孔。