[发明专利]选择性移除金属氧化物硬掩模在审
| 申请号： | 202180091371.3 | 申请日： | 2021-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN116761869A | 公开（公告）日： | 2023-09-15 |
| 发明（设计）人： | 蔡升贤;洪性辰;E·洪;余珠姬;金元来;梁正烈 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供在其它材料(如多晶硅、二氧化硅、氮化硅和钨)存在下可用于选择性蚀刻(即移除)金属氧化物硬掩模(如氧化锆和氧化铪)的组合物，所述硬掩模通常用作微电子装置中的硬掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 选择性 金属 氧化物 硬掩模 | ||
【主权项】：
暂无信息
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