[发明专利]用于制备含硅膜的前驱物和方法在审
| 申请号： | 202180031709.6 | 申请日： | 2021-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN115485284A | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 李相禛;金多慧;赵诚实;张西凤;朴哉彦;B·C·亨德里克斯;T·H·鲍姆;李铢眞 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C07F7/10 | 分类号： | C07F7/10;C23C16/40;C23C16/34;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文提供可用于沉积含硅膜的某些液体硅前驱物，所述含硅膜是例如包含硅、氮化硅、氧氮化硅、二氧化硅、碳化硅、碳掺杂的氮化硅或碳掺杂的氧氮化硅的膜。还提供利用气相沉积技术形成所述膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 含硅膜 前驱 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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