[发明专利]用于增强可靠性的三维存储器件和制造方法在审
| 申请号： | 202180003833.1 | 申请日： | 2021-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN114207822A | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 王启光;蒲浩;李劲昊 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L27/1157 | 分类号： | H01L27/1157;H01L27/11582 |
| 代理公司： | 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 | 代理人： | 林锦辉;刘景峰 |
| 地址： | 430000 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了三维(3D)NAND存储器件和方法。在一方面，一种制造方法包括：在衬底之上形成电介质堆叠体；穿过电介质堆叠体形成功能层和半导体沟道；基于电介质堆叠体形成导体/绝缘体堆叠体；以及穿过导体/绝缘体堆叠体形成存储单元。每个存储单元包括功能层和半导体沟道的部分。功能层和半导体沟道中的至少一者包括一定量的氘元素。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 增强 可靠性 三维 存储 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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