[发明专利]具有凹陷栅极晶体管的外围电路及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202180002506.4 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113678253A 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 石艳伟;王言虹;甘程;陈亮;刘威;夏志良;周文犀;张坤;杨远程 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11526;H01L27/11551;H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11578
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 林锦辉;刘景峰
地址: 430074 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 在某些方面中,公开了一种用于形成三维(3D)存储器装置的方法。在第一衬底上形成包括NAND存储器串的阵列的第一半导体结构。在第二衬底上形成包括凹陷栅极晶体管的第二半导体结构。所述凹陷栅极晶体管包括深入到所述第二衬底中的凹陷栅极结构。以面对面的方式键合所述第一半导体结构和所述第二半导体结构,使得所述NAND存储器串的阵列横跨键合界面耦接至所述凹陷栅极晶体管。
搜索关键词: 具有 凹陷 栅极 晶体管 外围 电路 及其 形成 方法
【主权项】:
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