[实用新型]一种用于低温与高温刻蚀工艺的电极结构有效
申请号: | 202123305668.1 | 申请日: | 2021-12-24 |
公开(公告)号: | CN216698271U | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 李娜;韩大健;王海东;郭颂;刘海洋;张怀东;胡冬冬;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
主分类号: | H01J37/04 | 分类号: | H01J37/04;H01J37/02;H05K7/20 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 彭英 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型属于等离子刻蚀技术领域,具体涉及一种用于低温与高温刻蚀工艺的电极结构,包括电极本体,电极本体包括从上到下依次设置的加热台和水冷板,加热台底部设置有氦气输送外接管、测温器安装管、加热组件出线管,氦气输送外接管、测温器安装管、加热组件出线管均设置为套管结构,套管结构包括同轴安装的内管和外管,内管顶端与加热台下表面接触,外管顶端与水冷板下表面接触;套管结构在远离水冷板的位置处,于内管的外壁与外管的内壁之间,以及套管结构的外管与水冷板下表面接触位置均设置有密封组件。所述电极装置用于承载晶圆,同时结合所述调控方法为晶圆提供刻蚀工艺所需合适的温度。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 低温 高温 刻蚀 工艺 电极 结构 | ||
【主权项】:
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