[实用新型]一种PECVD薄膜沉积脉冲调制射频装置有效
申请号: | 202122988750.2 | 申请日: | 2021-12-01 |
公开(公告)号: | CN216550699U | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 王硕 | 申请(专利权)人: | 苏州光筑激光设备有限公司 |
主分类号: | C23C16/52 | 分类号: | C23C16/52;C23C16/505;C23C16/44 |
代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 邵娟 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种PECVD薄膜沉积脉冲调制射频装置,包括箱体,所述箱体底部固定安装有支腿,所述箱体的外表面固定安装有控制器,所述箱体的左侧外表面固定安装有散热结构;所述散热结构包括位于箱体左侧外表面的通风口,所述箱体的内顶壁固定安装有电机。该PECVD薄膜沉积脉冲调制射频装置,通过设置温度检测器,通过设定温度检测器检测箱体内部的温度高度和检测温度低度,通过设置控制器可以控制和驱动电机和冷却机的工作,当温度检测器检测到箱体内的温度高度高于设定检测温度时,温度检测器将信号传输至控制器,控制器控制冷却机和抽气机工作,冷却机工作制冷,对箱体内腔温度进行降温,抽气机将箱体外部的空气吸入箱体的内部。 | ||
搜索关键词: | 一种 pecvd 薄膜 沉积 脉冲调制 射频 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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