[实用新型]化学气相沉积装置有效
申请号: | 202122957575.0 | 申请日: | 2021-11-29 |
公开(公告)号: | CN216427410U | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 龙梅丽 | 申请(专利权)人: | 乐金显示光电科技(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 吴萌 |
地址: | 510530 广东省广州市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开一种化学气相沉积装置,包括扩散器、上电极、绝缘垫片和连接件,其中,扩散器具有安装翻边,安装翻边上开设有第一安装孔,上电极对应第一安装孔的位置开设有第二安装孔,绝缘垫片夹设于扩散器的安装翻边和上电极之间,且绝缘垫片上正对第一安装孔和第二安装孔的位置开设有避让孔,以使连接件在连接扩散器和上电极时,能够穿过避让孔,使绝缘垫片夹设于安装翻边与上电极之间。通过绝缘垫片的设置避免了扩散器和上电极直接接触,防止扩散器热膨胀后,扩散器和上电极发生相对位移,保证扩散器与上电极之间不会产生研磨异物,提高了镀膜质量。 | ||
搜索关键词: | 化学 沉积 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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