[实用新型]一种真空镀膜用溅射靶座有效
| 申请号： | 202122936554.0 | 申请日： | 2021-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN216404522U | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 应世强;应佳根 | 申请（专利权）人： | 南京丙辰表面技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/50 |
| 代理公司： | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人： | 张丽丽 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空镀膜 溅射 | ||
【主权项】：
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