[实用新型]一种真空镀膜用溅射靶座

说明书

本实用新型公开了一种真空镀膜用溅射靶座，属于真空镀膜机技术领域，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，特别涉及一种真空镀膜用溅射靶座。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

真空镀膜机中所用的溅射靶座是用来固定靶材和基片的装置，但是传统的溅射靶座只能允许基片单面镀膜，对于有双面镀膜需求的基片使用起来不方便，而且传统的溅射靶座为了保证靶材的冷却效率，通常靶材与降温用的水冷管直接接触，若是水冷管破裂很容易漏水滴落到靶材上，影响镀膜的正常进行。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述真空镀膜机的溅射靶座不方便双面镀膜以及采用水冷降温存在安全隐患的问题而提供一种真空镀膜用溅射靶座，具有方便双面镀膜，提高镀膜效率，使用更安全的优点。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的，一种真空镀膜用溅射靶座，包括正极座和靶材固定架组成的靶材座以及负极座和基片固定架组成的基片座，所述正极座和所述负极座内均镶嵌不同磁极的磁性柱，所述基片固定架和所述负极座之间通过推杆推动可分离，所述推杆通过连接座与所述基片固定架连接，所述连接座通过轴承座与所述基片固定架转动连接，所述轴承座由翻转电机驱动进行转动，使所述基片固定架可沿着长度方向的中轴线翻转。

优选的，所述基片固定架的两侧设置有通过拉伸栓连接的夹持贴片，夹持贴片位于基片固定架内部，拉伸栓位于基片固定架的外侧，且夹持贴片与基片固定架内壁之间套接有弹簧。

优选的，所述轴承座的外壁套接齿轮盘，齿轮盘与连接在翻转电机电机轴上的主动齿轮啮合。

优选的，所述靶材固定架的一侧开设用于通过靶材的插口，且靶材固定架的内壁一圈设置限位框。

优选的，所述正极座靠近靶材固定架的一面铺设金属导热片，金属导热片覆盖在弯曲成S型的水冷管表面，水冷管伸出正极座的进出口均连接有冷却管接口。

优选的，所述靶材座和基片座上均设置有外延板，外延边之间通过调节丝杆连接，且调节丝杆穿过其中一个外延边，伸出端套接有调节螺母。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、通过将基片固定架设置成可以翻转的结构，使基片的正反两面可以通过翻转朝向靶材固定架，实现双面镀膜，提高了镀膜效率，基片固定架只有通过推杆升起时才能翻转，保证了基片固定架的稳定性。

2、靶材通过插口可插入靶材固定架的内部，限位框可防止靶材脱落，从而方便了靶材的进料，而且通过金属导热片覆盖用来对靶材进行降温的水冷管，使靶材与水冷管间接接触的同时，保证了冷热传递的效率，也能防止水冷管破裂导致漏水影响靶材的镀膜，提高了使用的安全性。

附图说明