[实用新型]一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件有效

专利信息
申请号: 202122224788.2 申请日: 2021-09-14
公开(公告)号: CN215593170U 公开(公告)日: 2022-01-21
发明(设计)人: 钱超;杨柯;吴建 申请(专利权)人: 常州高光半导体材料有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 代理人: 董成
地址: 213311 江苏省常*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型提出的一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件,涉及蒸镀掩膜领域。该支撑掩膜版上具有若干上下贯通的蒸镀孔,蒸镀孔呈矩形阵列的形式排列;所述的蒸镀孔的上口处设置有凹槽,该凹槽从蒸镀孔的上口边缘向蒸镀孔的外围扩展;凹槽的宽度为d1,蒸镀孔的上口宽度为d2,1mm≤d1‑d2≤3mm。所述的支撑掩膜组件包括上述支撑掩膜版和掩膜框架,支撑掩膜版设置在掩膜框架的上侧。所述的蒸镀掩膜部件包括上述的支撑掩膜组件和精细金属掩膜版,精细金属掩膜版设置在支撑掩膜版的上侧。本实用新型用于蒸镀时,能够避免在显示装置的显示区域边缘产生“混色”缺陷,有利于提高显示装置的蒸镀产出良率。
搜索关键词: 一种 支撑 掩膜版 组件 蒸镀掩膜 部件
【主权项】:
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