[实用新型]一种提升9寸掩膜版清洗安全和清洗效率的夹具有效
申请号: | 202121796789.8 | 申请日: | 2021-08-03 |
公开(公告)号: | CN215769348U | 公开(公告)日: | 2022-02-08 |
发明(设计)人: | 黄志斌 | 申请(专利权)人: | 深圳清溢光电股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 | 代理人: | 宫建华 |
地址: | 518000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种提升9寸掩膜版清洗安全和清洗效率的夹具,包括夹具本体,为设备主要的夹持结构,所述夹具本体的内表面设置有连接臂,所述连接臂的另一端连接有螺杆;清洗池,位于所述夹具本体的底端,所述清洗池的内表面设置有连接杆;套筒,位于所述夹具本体的顶端,所述套筒内部与所述的螺杆外表面相互连接。该提升9寸掩膜版清洗安全和清洗效率的夹具,通过设置八个支撑座对掩膜版的侧面进行固定,能够提高对掩膜版支撑的稳定性,避免在清洗过程中施力不均匀而导致掩膜版从夹具内部翘起,不仅增加了清洗的安全性,同时也增加了对掩膜版的清洗效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提升 寸掩膜版 清洗 安全 效率 夹具 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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