[实用新型]一种真空蒸镀机的单穴坩埚结构有效
| 申请号： | 202121473777.1 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN216947167U | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 薛蒙晓 | 申请（专利权）人： | 苏州佑伦真空设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30 |
| 代理公司： | 苏州彰尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32336 | 代理人： | 赵成磊 |
| 地址： | 215000 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请提供一种真空蒸镀机的单穴坩埚结构，包括一体式坩埚、X偏转线圈、电子枪、Y偏转线圈、保护挡板和导磁板，所述一体式坩埚包括上部、下部和设置在上部和下部中心位置的坩埚，上部的长和宽均大于下部的长和宽，所述X偏转线圈设置在下部的后方，电子枪设置在所述下部的正前方，Y偏转线圈有两个并且分别设置电子枪的左右两边，X偏转线圈、电子枪和两个Y偏转线圈的上表面均与上部的下表面接触，X偏转线圈位于上部的后面凸出于下部的空间内，电子枪和两个Y偏转线圈位于上部的前面凸出于下部的空间内，保护挡板与一体式坩埚的上部的后表面接触，导磁板有两个，分别分别与一体式坩埚的上部的左侧面和右侧面接触。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 蒸镀机 坩埚 结构 | ||
【主权项】：
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