[实用新型]一种真空蒸镀机的单穴坩埚结构

权利要求书

1.一种真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，包括一体式坩埚(1)、X偏转线圈(2)、电子枪(3)、Y偏转线圈(4)、保护挡板(5)和导磁板(6)，所述一体式坩埚(1)包括上部(11)、下部(12)和设置在上部(11)和下部(12)中心位置的坩埚(13)，一体式坩埚(1)的上部(11)、下部(12)和坩埚(13)是一体式的，上部(11)的长和宽均大于下部(12)的长和宽，所述X偏转线圈(2)设置在一体式坩埚(1)的下部(12)的后方，X偏转线圈(2)位于一体式坩埚(1)的下部(12)与保护挡板(5)之间，电子枪(3)设置在所述下部(12)的正前方，Y偏转线圈(4)有两个并且分别设置电子枪(3)的左右两边，X偏转线圈(2)、电子枪(3)和两个Y偏转线圈(4)的上表面均与一体式坩埚(1)的上部(11)的下表面接触，X偏转线圈(2)位于一体式坩埚(1)的上部(11)的后面凸出于下部(12)的空间内，电子枪(3)和两个Y偏转线圈(4)位于一体式坩埚(1)的上部(11)的前面凸出于下部(12)的空间内，保护挡板(5)设置在一体式坩埚(1)的后方并与一体式坩埚(1)的上部(11)的后表面接触，导磁板(6)有两个，分别设置在一体式坩埚(1)的左右两侧并且分别与一体式坩埚(1)的上部(11)的左侧面和右侧面接触。

2.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述一体式坩埚(1)的上部(11)为正方体、长方体、梯形体中的一种，下部(12)为正方体或者长方体，上部(11)的高度小于下部(12)的高度。

3.如权利要求2所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述一体式坩埚(1)的坩埚(13)的上表面位于所述上部(11)的上表面与下表面之间，坩埚(13)为碗状，坩埚(13)的下表面位于所述下部(12)的下表面的上方。

4.如权利要求3所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述一体式坩埚(1)的上部(11)的前面中心处具有一个凹陷部(111)，凹陷部(111)的宽度小于上部(11)的前面凸出于下部(12)的长度。

5.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述电子枪(3)位于凹陷部(111)的下方，电子枪(3)的上表面与凹陷部(111) 的下表面接触，凹陷部(111)的长度大于电子枪(3)的长度。

6.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述X偏转线圈(2)、电子枪(3)和Y偏转线圈(4)的高度均小于所述一体式坩埚(1)的下部(12)的高度。

7.如权利要求6所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述X偏转线圈(2)的长度小于等于所述一体式坩埚(1)的下部(12)的长度，两个Y偏转线圈(4)与电子枪(3)之间具有间距，X偏转线圈(2)的厚度小于等于一体式坩埚(1)的上部(11)的后面凸出于下部(12)的长度，电子枪(3)和两个Y偏转线圈(4)的厚度小于等于一体式坩埚(1)的上部(11)的前面凸出于下部(12)的长度。

8.如权利要求1所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述真空蒸镀机的单穴坩埚结构还包括底板(7)，底板(7)与一体式坩埚(1)的下部(12)的下表面固定，底板(7)通过螺丝与真空蒸镀机的主腔体的底面固定，使得所述单穴坩埚结构与真空蒸镀机的主腔体的底面固定。

9.如权利要求8所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述底板(7)为正方形或者长方形薄板，底板(7)的长度和宽度均大于一体式坩埚(1)的上部(11)的长度和宽度，保护挡板(5)和两个导磁板(6)的下表面均与底板(7)的上表面固定。

10.如权利要求9所述的真空蒸镀机的单穴坩埚结构，其特征在于，所述保护挡板(5)和两个导磁板(6)的高度均等于所述一体式坩埚(1)的高度。