[实用新型]一种自动对准移动掩模光刻机有效
申请号: | 202120084852.9 | 申请日: | 2021-01-13 |
公开(公告)号: | CN215297940U | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 陈杰相 | 申请(专利权)人: | 陈杰相 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 553206 贵州省*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本实用新型涉及光刻机技术领域,且公开了一种自动对准移动掩模光刻机,包括基台、硅片台、支撑柱、掩膜版滑台、成像光刻透镜、滑轨、移动承载台、紧固把手、紫光透镜、紫光光源和掩膜版,所述基台的上表面活动安装有硅片台,所述基台上表面的两侧均连接有支撑柱,所述支撑柱的上端安装有掩膜版滑台,所述掩膜版滑台的中部位置开设有成像孔,所述掩膜版滑台的两侧开设有滑轨。该自动对准移动掩模光刻机,通过在掩膜版滑台上设置有活动安装的移动承载台,整体通过简单便捷的安装操作,使多个掩膜版均可稳定可靠的固定在掩膜版凹槽内,使掩膜版自动对准到方便进行光刻操作的位置,提升了光刻机的工作效率,减轻了工作人员的工作负担。 | ||
搜索关键词: | 一种 自动 对准 移动 光刻 | ||
【主权项】:
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