[实用新型]一种自动对准移动掩模光刻机

说明书

本实用新型涉及光刻机技术领域，且公开了一种自动对准移动掩模光刻机，包括基台、硅片台、支撑柱、掩膜版滑台、成像光刻透镜、滑轨、移动承载台、紧固把手、紫光透镜、紫光光源和掩膜版，所述基台的上表面活动安装有硅片台，所述基台上表面的两侧均连接有支撑柱，所述支撑柱的上端安装有掩膜版滑台，所述掩膜版滑台的中部位置开设有成像孔，所述掩膜版滑台的两侧开设有滑轨。该自动对准移动掩模光刻机，通过在掩膜版滑台上设置有活动安装的移动承载台，整体通过简单便捷的安装操作，使多个掩膜版均可稳定可靠的固定在掩膜版凹槽内，使掩膜版自动对准到方便进行光刻操作的位置，提升了光刻机的工作效率，减轻了工作人员的工作负担。

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，具体为一种自动对准移动掩模光刻机。

背景技术

在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)。光刻机的分辨率和曝光效率极大的影响着集成电路芯片的特征线宽(分辨率)和生产率。而作为光刻机关键系统的硅片超精密运动定位系统(以下简称为硅片台)的运动精度和工作效率，又在很大程度上决定了光刻机的分辨率和曝光效率。光刻机基本原理为深紫外光光源透过掩膜版、透镜将掩膜版上的一部分图形成像在硅片上。掩膜版和硅片反向按一定的速度比例作同步运动，最终将掩膜版上的全部图形成像在硅片的特定芯片上,目前的光刻机是在掩模台上只设有一块掩膜版,曝光结束后换装其他掩膜版,采用一台光刻机分多步完成就需要依次更换掩膜版,每更换一次掩模,就要重新对准一次；而采用两台光刻机同时工作,就会大幅增加生产成本。

目前市场上的一些光刻机：

(1)在更换掩膜版的过程中，由于没有一个相对固定基准位的原因，无法对掩膜版的位置进行精确定位工作，从而导致后续光刻机的自动对准工作无法方便快捷的进行，影响光刻机的正常生产效率，同时增加了工作人员的工作负担，而且光刻机对周围环境的要求非常苛刻，一些微小的震动和灰尘都会影响光刻机的正常光刻质量，而现有光刻机的掩膜版在移动过程不够稳定，导致其存在使用效果不佳的问题；

(2)在进行光刻过程中，由于掩膜版常常需要多个进行叠加，从而对光源在传播过程中进行精度补偿，例如，如果需要光刻一个老虎的图案，就不能将掩膜版上的图案将直接设置成老虎，需要先将掩膜版的图案设置成猫，然后通过工作人员考虑到光刻机工作时各个因素的影响，从而对光源在传播过程中进行有效精度补偿，最终成像为一个相似于老虎的图案；但现有的光刻机移动承载台通常都需要使用多个固定装置并且对多个掩膜版进行对准定位工作，导致工作人员的工作负担增加，使光刻机的生产效率大大折扣。

所以我们提出了一种自动对准移动掩模光刻机，以便于解决上述中提出的问题。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对上述背景技术中现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种自动对准移动掩模光刻机，以解决上述背景技术中提出的目前市场上的一些自动对准移动掩模光刻机，存在没有相对固定基准位无法对掩膜版进行精确定位工作和不能够对多个掩膜版同时进行定位工作的问题。

(二)技术方案

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种自动对准移动掩模光刻机，包括基台、硅片台、支撑柱、掩膜版滑台、成像光刻透镜、滑轨、移动承载台、紧固把手、紫光透镜、紫光光源和掩膜版，所述基台的上表面活动安装有硅片台，所述基台上表面的两侧均连接有支撑柱，所述支撑柱的上端安装有掩膜版滑台，所述掩膜版滑台的中部位置开设有成像孔，所述掩膜版滑台的两侧开设有滑轨；

所述成像孔的下端设置有成像光刻透镜，所述滑轨内连接有移动承载台，所述移动承载台的上端安装有套筒，所述移动承载台的内部开设有矩形通孔，所述矩形通孔的上端安装有紫光透镜；