[发明专利]一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机在审

专利信息
申请号: 202111676953.6 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114308764A 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 马东;李晓玲 申请(专利权)人: 无锡小迪电子科技有限公司
主分类号: B08B1/00 分类号: B08B1/00;B08B7/00;B08B13/00;B08B15/04;F16F15/04
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 江苏省无锡市新*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机,包括等离子去胶机本体和底座,所述底座位于等离子去胶机本体的下方,底座的顶部开设有四个呈两两对称设置的安装槽,等离子去胶机本体的底部固定安装有四个支撑柱。本发明设计合理,实用性好,能够对半导体材料的上表面和下表面进行自动清洁除尘,并能够对清扫下来的灰尘杂质进行收集,不需人工手动操作对半导体材料表面进行清洁,减少了工作人员的劳动量,避免半导体材料携带灰尘杂质进入等离子去胶机本体内,提高了去胶质量,而且能够对等离子去胶机本体受到的震动力进行有效的缓冲减震,提高了等离子去胶机本体的抗震性能,避免等离子去胶机本体受到震动力而损坏。
搜索关键词: 一种 适用于 第三代 半导体材料 兼容 等离子 去胶机
【主权项】:
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