[发明专利]一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机

权利要求书

1.一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机，包括等离子去胶机本体(1)和底座(2)，其特征在于：所述底座(2)位于所述等离子去胶机本体(1)的下方，所述底座(2)的顶部开设有四个呈两两对称设置的安装槽(3)，所述等离子去胶机本体(1)的底部固定安装有四个支撑柱(4)，四个所述支撑柱(4)的底端分别滑动安装在相对应的所述安装槽(3)内，所述底座(2)的顶部中间位置开设有凹槽(5)，所述等离子去胶机本体(1)的底部固定安装有梯形座(6)，所述梯形座(6)的两侧均为倾斜设置，所述梯形座(6)的底部延伸至所述凹槽(5)内并固定安装有横板(7)，所述等离子去胶机本体(1)和底座(2)之间设置有减震机构，所述等离子去胶机本体(1)的顶部固定安装有清洁箱(18)，所述清洁箱(18)的前侧为开口设置，所述清洁箱(18)的前侧外壁上转动安装有箱门(19)，所述清洁箱(18)的左侧内壁和右侧内壁上均固定安装有电动推杆(20)，两个所述电动推杆(20)的输出轴端均固定安装有夹板(21)，所述清洁箱(18)上设置有清洁机构，等离子去胶机本体(1)的顶部设置有吸尘组件。

2.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机，其特征在于：所述减震机构包括四个第一阻尼垫(8)、四个第一减震弹簧(9)、第二阻尼垫(10)、多个第二减震弹簧(11)、两个矩形滑板(13)、两个横杆(14)、两个圆球(15)、两个第三阻尼垫(16)和两个第三减震弹簧(17)，四个所述第一阻尼垫(8)均固定安装在所述底座(2)的顶部，四个所述第一减震弹簧(9)的底端分别与相对应的所述第一阻尼垫(8)固定连接，四个所述第一减震弹簧(9)的顶端均与所述等离子去胶机本体(1)的底部固定连接，四个所述第一减震弹簧(9)分别套设在相对应的所述支撑柱(4)上，所述第二阻尼垫(10)固定安装在所述凹槽(5)的底部内壁上，多个所述第二减震弹簧(11)的底端均与所述第二阻尼垫(10)固定连接，多个所述第二减震弹簧(11)的顶端均与所述横板(7)的底部固定连接，所述凹槽(5)的两侧内壁上均开设有矩形滑槽(12)，两个所述矩形滑板(13)分别滑动安装在相对应的所述矩形滑槽(12)内，两个所述横杆(14)分别固定安装在两个所述矩形滑板(13)相互靠近的一侧，两个所述横杆(14)相互靠近的一端分别延伸至相对应的所述矩形滑槽(12)外，两个所述圆球(15)分别固定安装在两个所述横杆(14)相互靠近的一端，两个所述圆球(15)分别与所述梯形座(6)的两侧倾斜面接触，两个所述第三阻尼垫(16)分别固定安装在两个所述矩形滑板(13)相互远离的一侧，两个所述第三减震弹簧(17)分别位于相对应的所述矩形滑槽(12)内，两个所述第三减震弹簧(17)相互靠近的一端分别与相对应的所述第三阻尼垫(16)固定连接，两个所述第三减震弹簧(17)相互远离的一端分别与相对应所述矩形滑槽(12)的一侧内壁固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机，其特征在于：所述安装槽(3)的两侧内壁上均开设有限位槽，所述支撑柱(4)的两侧均固定安装有限位杆，所述限位杆滑动安装在相对应的所述限位槽内。

4.根据权利要求1所述的一种适用于第三代半导体材料兼容硅基等离子去胶机，其特征在于：所述清洁机构包括两个轴座(22)、两个活动轴(23)、两个推板(24)、两个复位弹簧(25)、两个刷板(26)、两组刷毛(27)和传动组件，两个所述轴座(22)均固定安装在所述清洁箱(18)的后侧内壁上，两个所述活动轴(23)分别滑动安装在相对应的所述轴座(22)上，两个所述推板(24)分别固定安装在相对应所述活动轴(23)的左端，两个所述复位弹簧(25)的一端分别与相对应所述推板(24)的右侧壁固定连接，两个所述复位弹簧(25)的另一端分别与相对应的所述轴座(22)固定连接，两个所述复位弹簧(25)分别套设在相对应的所述活动轴(23)上，两个所述刷板(26)分别固定安装在相对应的所述推板(24)上，两组刷毛(27)分别固定安装在两个所述推板(24)相互靠近的一侧。