[发明专利]一种铌掺杂二维硫化钨晶体材料的制备方法在审

专利信息
申请号: 202111641662.3 申请日: 2021-12-29
公开(公告)号: CN114540956A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 陈飞;夏媛;吕秋燃;苏伟涛 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B25/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种铌掺杂二维硫化钨晶体材料的制备方法,采用化学气相沉积法,以Si/SiO2为衬底,金属钨箔为钨源,金属铌箔为铌源,生长衬底倒扣在金属钨箔上,金属铌箔面积小于金属钨箔面积,生长衬底一端直接与金属钨箔接触,另一端在铌源的正上方,与硫蒸气反应,在衬底上制备得到了一种铌掺杂二维硫化钨晶体材料。所得的单层铌掺杂硫化钨晶体材料,可作为晶体管的沟道材料应用于超薄高效场效应晶体管领域。
搜索关键词: 一种 掺杂 二维 硫化 晶体 材料 制备 方法
【主权项】:
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