[发明专利]聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用在审

专利信息
申请号: 202111597353.0 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN114488693A 公开(公告)日: 2022-05-13
发明(设计)人: 王晓伟 申请(专利权)人: 苏州理硕科技有限公司
主分类号: G03F7/037 分类号: G03F7/037;G03F7/004;G03F7/16;G03F7/40;C08G69/32
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 林晓欣
地址: 215000 江苏省苏州市苏州工业*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供了一种聚合物、含有此聚合物的光刻胶及其应用,聚合物的结构为:其中:其中:R1选自或单键;R2选自‑H、C1~C10卤代烃基、C6~C10芳基或取代或未被取代的C1~C10直链或环状杂烷基;R4选自单键、‑O‑、C1~C10卤代烃、C6~C10芳基或取代或未被取代的C1~C10直链或环状杂烷基;R3分别独立地选自‑H或‑OH;n为10~110的整数;使用上述聚合物在制备负性光刻胶时会大幅度提高光刻胶的耐高温性,含有此聚合物光刻胶的分解温度高达250℃,可提高全波段光具有良好的目标线宽成像,可有效获得负性光刻图形以及提高光敏化效果。
搜索关键词: 聚合物 含有 光刻 及其 应用
【主权项】:
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