[发明专利]具有金属栅结构的Ga2有效

专利信息
申请号: 202111569085.1 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114267747B 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 张紫辉;刘祖品;楚春双;张勇辉 申请(专利权)人: 河北工业大学
主分类号: H01L31/102 分类号: H01L31/102;H01L31/112;H01L31/18
代理公司: 天津翰林知识产权代理事务所(普通合伙) 12210 代理人: 赵凤英
地址: 300130 天津市红桥区*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明为一种具有金属栅结构的Ga2O3/AlGaN/GaN日盲紫外探测器及其制备方法。所述的探测器结构为以下两种:第一种,由下至上依次包括衬底、缓冲层、沟道层、势垒层;势垒层中部上覆盖有吸收层;吸收层上为金属层;或者,第二种,由下至上依次包括衬底、缓冲层、沟道层、势垒层;势垒层中部上覆盖有吸收层;吸收层上表面和侧面均覆盖有第二绝缘层,第二绝缘层的上表面为金属层。本发明的暗电流量级为10‑15,低暗电流可以降低探测器的功耗,提高灵敏度,从而大大增强对信号的识别能力,并且工艺简单可靠,可重复性强,生产成本低,适于产业推广,可应用于紫外探测领域。
搜索关键词: 具有 金属 结构 ga base sub
【主权项】:
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