[发明专利]水基清洗剂及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202111545904.9 | 申请日： | 2021-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN114214130A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 郭艳萍;杨鹏 | 申请（专利权）人： | 深圳市合明科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/831 | 分类号： | C11D1/831;C11D3/43;C11D3/37;C11D3/20;C11D3/60;H05K3/26 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 曹柳 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤海街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请属于清洗剂技术领域，尤其涉及一种水基清洗剂及其制备方法。以所述水基清洗剂的总质量为100％计，包括如下质量百分含量的原料组分：非离子表面活性剂1.5～3％，阴离子表面活性剂1～2％，有机溶剂10～15％，增效剂1.5～3％，稳定剂1～2％，余量的水；水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。本申请水基清洗剂，不含卤素、无磷、无氮，不会造成水体富营养化，环境友好，且水基清洗剂无闪点、不燃不爆、泡沫少，具有优异的材料兼容性能，适用于喷淋清洗和超声波清洗等工艺。适用于材料敏感，污水排放要求严格的应用场所，尤其适用于印刷电路板焊后残留清洗，能有效去除焊接器件表面及缝隙处的锡膏焊残留，使焊点光亮。 | ||
| 搜索关键词： | 水基清 洗剂 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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