[发明专利]水基清洗剂及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种水基清洗剂，其特征在于，以所述水基清洗剂的总质量为100％计，包括如下质量百分含量的原料组分：

所述水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。

2.如权利要求1所述的水基清洗剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂选自炔二醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯月桂醇醚、蔗糖脂肪酸酯中的至少一种。

3.如权利要求1所述的水基清洗剂，其特征在于，所述阴离子表面活性剂选自烷基二苯基氧化物二磺酸钠盐、仲烷基磺酸钠中、琥珀酸酯磺酸钠中的至少一种。

4.如权利要求1～3任一项所述的水基清洗剂，其特征在于，所述非离子表面活性剂与所述阴离子表面活性剂的质量比为(1.5～2)：1；

和/或，所述水基清洗剂的pH值为6.5～7.5。

5.如权利要求1所述的水基清洗剂，其特征在于，有机溶剂选自二丙二醇丙醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇丁醚、二乙二醇己醚中的至少一种。

6.如权利要求1所述的水基清洗剂，其特征在于，所述增效剂选自聚乙烯醇、聚丙烯酸钠中的任意一种。

7.如权利要求1所述的水基清洗剂，其特征在于，所述稳定剂包括柠檬酸和柠檬酸钠复配。

8.一种水基清洗剂的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

将1.5～3份的非离子表面活性剂，1～2份的阴离子表面活性剂，10～15份的有机溶剂，1.5～3份的增效剂，1～2份的稳定剂和75～85份的水进行混合处理，得到水基清洗剂；所述水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。

9.如权利要求8所述的水基清洗剂的制备方法，其特征在于，所述混合处理的步骤包括：将1.5～3份的非离子表面活性剂，1～2份的阴离子表面活性剂，10～15份的有机溶剂，1.5～3份的增效剂和1～2份的稳定剂进行混合处理后，添加75～85份的水再混合处理，得到所述水基清洗剂；

和/或，所述非离子表面活性剂与所述阴离子表面活性剂的质量比为(1.5～2)：1。

10.一种水基清洗剂的应用，其特征在于，将如权利要求1～7任一项所述的水基清洗剂或者如权利要求8～9任一项所述方法制备的水基清洗剂，应用到印刷电路板的清洗方面。