[发明专利]水基清洗剂及其制备方法和应用

说明书

本申请属于清洗剂技术领域，尤其涉及一种水基清洗剂及其制备方法。以所述水基清洗剂的总质量为100％计，包括如下质量百分含量的原料组分：非离子表面活性剂1.5～3％，阴离子表面活性剂1～2％，有机溶剂10～15％，增效剂1.5～3％，稳定剂1～2％，余量的水；水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。本申请水基清洗剂，不含卤素、无磷、无氮，不会造成水体富营养化，环境友好，且水基清洗剂无闪点、不燃不爆、泡沫少，具有优异的材料兼容性能，适用于喷淋清洗和超声波清洗等工艺。适用于材料敏感，污水排放要求严格的应用场所，尤其适用于印刷电路板焊后残留清洗，能有效去除焊接器件表面及缝隙处的锡膏焊残留，使焊点光亮。

技术领域

本申请属于清洗剂技术领域，尤其涉及一种水基清洗剂及其制备方法，以及一种水基清洗剂的应用。

背景技术

磷和氮元素是影响湖泊水体富营养化的主要因素。适量的磷、氮对促进水体生物、植物的生长保持生态平衡，但过量会引起水体的富营养化，从而藻类及其他浮游生物迅速繁殖，进而覆盖大片水域，阻碍水和空气间的流通，使得水体溶解氧量下降，水质恶化，导致鱼类及其他生物大量死亡，出现赤潮现象。

随着工业经济的不断发展，企业产能不断扩大，工业废水排放量也不断增加。为实现经济与环境的可持续发展，环保部门对企业工业废水的排放标准不断提高，不含磷不含氮的环保水基清洗剂俨然成为工业清洗剂的发展趋势。

为了增加清洗效果，一般清洗剂会加入某些具有特殊作用的洗涤助剂，例如：加入螯合剂帮助软化硬水，抑制钙、镁离子对表面活性剂洗涤作用的不良影响，加入抗再沉积助剂以防止污垢再沉积。这些洗涤助剂大多是含有磷或氮的有机化合物，极大的影响水体富营养化。

发明内容

本申请的目的在于提供一种水基清洗剂及其制备方法，以及一种水基清洗剂的应用，旨在一定程度上解决现有清洗剂含有磷或氮的有机化合物，影响水体富营养化的问题。

为实现上述申请目的，本申请采用的技术方案如下：

第一方面，本申请提供一种水基清洗剂，以所述水基清洗剂的总质量为100％计，包括如下质量百分含量的原料组分：

所述水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。

进一步地，所述非离子表面活性剂选自炔二醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯月桂醇醚、蔗糖脂肪酸酯中的至少一种。

进一步地，所述阴离子表面活性剂选自烷基二苯基氧化物二磺酸钠盐、仲烷基磺酸钠中、琥珀酸酯磺酸钠中的至少一种。

进一步地，所述非离子表面活性剂与所述阴离子表面活性剂的质量比为 (1.5～2)：1。

进一步地，所述水基清洗剂的pH值为6.5～7.5。

进一步地，有机溶剂选自二丙二醇丙醚、二丙二醇乙醚、二丙二醇丁醚、二乙二醇己醚中的至少一种。

进一步地，所述增效剂选自聚乙烯醇、聚丙烯酸钠中的任意一种。

进一步地，所述稳定剂包括柠檬酸和柠檬酸钠复配。

第二方面，本申请提供一种水基清洗剂的制备方法，包括以下步骤：

将1.5～3份的非离子表面活性剂，1～2份的阴离子表面活性剂，10～15份的有机溶剂，1.5～3份的增效剂，1～2份的稳定剂和75～85份的水进行混合处理，得到水基清洗剂；所述水基清洗剂中不含卤素、氮元素和磷元素。

进一步地，所述非离子表面活性剂与所述阴离子表面活性剂的质量比为 (1.5～2)：1。