[发明专利]对准装置、成膜装置、对准方法、成膜方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202111503460.2 | 申请日： | 2021-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN114622160A | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 神田宽 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/34;C23C14/56;H01L21/68;H01L51/56 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够通过简易的结构实现高精度的对准的技术。对准装置具备：取得拍摄机构(260)拍摄到的基板(5)拐角部的基板标记(71)与掩模(220)拐角部的掩模标记(72)的相对位置偏离量的位置取得机构以及调整基板与掩模的相对位置的位置调整机构，在将基板向掩模载置之前，以位置取得机构取得的载置前相对位置偏离量收敛于规定的范围的方式，进行位置调整机构进行位置调整动作的对准，在将基板载置于掩模之后，位置取得机构取得载置后相对位置偏离量，拍摄机构具有：具有第一拍摄倍率的第一拍摄部(261)；具有比第一拍摄倍率大的第二拍摄倍率的第二拍摄部(262)；在第一拍摄部与第二拍摄部中共同使用的物镜(416)。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 装置 方法 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能特机株式会社，未经佳能特机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111503460.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
