[发明专利]一种半导体低VOCs清洗剂在审
| 申请号： | 202111497412.7 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114149869A | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 吴爱平 | 申请（专利权）人： | 苏州德韬科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/20;C11D3/43;C11D3/60 |
| 代理公司： | 苏州佳捷天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 32516 | 代理人： | 石俊飞 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体VOCs清洗剂，涉及一种清洗剂领域，包括质量份数为10‑20份的表面活性剂、3‑6份的二乙二醇丁醚、3‑5份的助溶剂、0.5份的缓蚀剂和余量的去离子水。本发明能够去除半导体上的砂粒、切削磨料、指纹及金属离子，且去除能力强，同时本申请对半导体没有腐蚀，使得清洗后的半导体的良品率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 vocs 洗剂 | ||
【主权项】：
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