[发明专利]一种半导体低VOCs清洗剂在审
| 申请号： | 202111497412.7 | 申请日： | 2021-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN114149869A | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 吴爱平 | 申请（专利权）人： | 苏州德韬科技有限公司 |
| 主分类号： | C11D1/66 | 分类号： | C11D1/66;C11D3/20;C11D3/43;C11D3/60 |
| 代理公司： | 苏州佳捷天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 32516 | 代理人： | 石俊飞 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 vocs 洗剂 | ||
【权利要求书】：
1.一种半导体低VOCs清洗剂，其特征在于：包括如下组分：表面活性剂、二乙二醇丁醚、助溶剂、缓蚀剂和去离子水。
2.如权利要求1所述的一种半导体清洗剂，其特征在于：包括质量份数为10-20份的表面活性剂、3-5份的二乙二醇丁醚、3-5份的助溶剂、0.5份的缓蚀剂和余量的去离子水。
3.如权利要求2所述的一种半导体清洗剂，其特征在于：所述助溶剂为醇醚溶剂。
4.如权利要求2所述的一种半导体清洗剂，其特征在于：所述表面活性剂为非离子表面活性剂。
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