[发明专利]一种存储结构及其调控方法、存储器在审

专利信息
申请号: 202111473234.4 申请日: 2021-12-02
公开(公告)号: CN116234321A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 罗庆;徐彦楠;毕津顺 申请(专利权)人: 北京超弦存储器研究院;中国科学院微电子研究所
主分类号: H10B53/30 分类号: H10B53/30;H10B53/00;G11C5/14;G11C11/22
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 张珊珊
地址: 100176 北京市经济技术开*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种存储结构及其调控方法、存储器,该存储结构由第一金属电极、第一铁电层、反铁电层、第二铁电层和第二金属电极构成。由于这五个层次结构都为平面结构,更有利于3D结构的堆叠,即具有了尺寸可微缩性。且这种层次结构的排布使该存储结构中有四个矫顽电场的存在,在用于多值存储时,其具有更高的抗噪声能力,而且可以改善相邻值之间的交叠现象。以ZrO2材料的反铁电层作为存储层,使该存储结构具有更好的抗疲劳特性与击穿特性。并且该存储结构在单个电容中同时实现了无需外部偏置的非易失存储性能和2bit/cell的多值存储,有利于其高密度集成。
搜索关键词: 一种 存储 结构 及其 调控 方法 存储器
【主权项】:
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