[发明专利]一种MPS二极管的制备方法及MPS二极管在审

专利信息
申请号: 202111343383.9 申请日: 2021-11-13
公开(公告)号: CN114242767A 公开(公告)日: 2022-03-25
发明(设计)人: 张益鸣;刘杰 申请(专利权)人: 深圳芯能半导体技术有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/872;H01L21/329
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 阳方玉
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区宝龙*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于半导体领域,提供了一种MPS二极管的制备方法及MPS二极管,包括以下步骤:在第一外延层的上表面形成出第二外延层;在第二外延层的上表面形成第三外延层,其中,第三外延层的掺杂浓度小于第二外延层的掺杂浓度,第二外延层的掺杂浓度大于第一外延层的掺杂浓度;在第三外延层中形成漂移掺杂区,其中,漂移掺杂区的深度大于第三外延层的厚度;在第三外延层和漂移掺杂区上表面形成阳极金属层,在第一外延层的下表面形成阴极金属层。在MPS二极管正向开启时,MPS二极管电阻率低,当反向开启时,第二外延层和第三外延层呈现高电阻状态,可降低阳极金属层下方的表面电场强度分布,解决了MPS的漏电流较大的问题。
搜索关键词: 一种 mps 二极管 制备 方法
【主权项】:
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