[发明专利]硅片吸盘装置

摘要

本发明提供一种硅片吸盘结构，包括吸盘本体，吸盘本体具有中心轴，硅片吸盘装置还包括绕中心轴设置的真空发生器、挡边、排气孔；真空发生器设于吸盘本体上方，真空发生器底部设有多个斜排气口、多个吸气孔，斜排气口自真空发生器底部向上延伸用于排气，斜排气口自下而上延伸的纵截面宽度逐渐减小；挡边包括绕吸盘本体外边缘向上凸出设置的第一挡边、自吸盘本体上表面向上凸出设置的辐射状分布的多个第二挡边；排气孔均周向阵列于吸盘本体上；排气孔位于斜排气口斜下方，在自上而下的延伸方向上，排气孔正投影包围斜排气口正投影；吸盘本体下表面用于接触吸取硅片；真空发生器用于产生负压气流，并用于从斜排气口产生排气并通过排气孔排出。