[发明专利]一种半导体激光器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202111317942.9 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN116093740A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 郑婉华;李晶;王海玲;渠红伟 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/20 分类号: H01S5/20;H01S5/10;H01S5/065
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王文思
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供了一种半导体激光器,包括:依次生长在衬底上的第一限制层、有源层、第二限制层及波导层,其中,波导层上表面部分刻蚀形成主振荡结构,另一部分刻蚀形成功率放大结构,其中,主振荡结构与功率放大结构之间设置电隔离区,主振荡结构用于产生种子源,功率放大结构用于将种子源进行功率放大后输出;其中,主振荡结构包括至少一组光子晶体结构,和/或功率放大结构包括至少一组光子晶体结构;光子晶体结构用于将多模的种子源转换为单模的种子源。本公开还提供了一种半导体激光器的制备方法。
搜索关键词: 一种 半导体激光器 及其 制备 方法
【主权项】:
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