[发明专利]一种炉管与形成薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 202111316125.1 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN116083877A 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 王庆隆 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/458;C23C16/34
代理公司: 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 代理人: 张竞存;张颖玲
地址: 230000 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 本申请实施例提供一种炉管与形成薄膜的方法。其中,所述炉管包括:反应室;所述反应室中设置有承载衬底的晶舟和用于通入气体的注入管路集;其中,所述通入气体至少包括:含硅反应气体、含氮反应气体、除杂反应气体和清洁气体;所述注入管路集包括竖直设置的第一气体注入管路和第二气体注入管路,其中:所述第一气体注入管路为从顶部至底部均设置有喷气孔的单管,所述第一气体注入管路至少延伸至所述晶舟的顶部和底部;所述第二气体注入管路为采用弯管接头和两个单管形成的U型或倒U型管路,所述第二气体注入管路至少延伸至所述晶舟的顶部和底部,在所述两个单管中远离进气口的单管上从顶部至底部均设置有喷气孔。
搜索关键词: 一种 炉管 形成 薄膜 方法
【主权项】:
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