[发明专利]阵列基板及其制备方法、显示面板在审
| 申请号： | 202111314292.2 | 申请日： | 2021-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN114122143A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 孙荷静 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336;H01L29/10 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 唐秀萍 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种阵列基板及其制备方法、显示面板，所述阵列基板包括：基板；栅极，设置于所述基板的一侧；栅极绝缘层，设置于所述栅极远离所述基板的一侧，并覆盖所述栅极与所述基板；有源层，设置于所述栅极绝缘层远离所述栅极的一侧，并对应所述栅极设置；源极与漏极，设置于所述有源层远离所述栅极绝缘层的一侧；其中，所述源极与所述漏极之间形成有沟道区，所述沟道区内设置有金属氧化层，所述金属氧化层覆盖所述有源层。所述金属氧化层能够有效地防止环境中的水汽通过所述沟道区造成器件失效的问题，提高了所述阵列基板的稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 显示 面板 | ||
【主权项】：
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