[发明专利]一种阵列基板及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202111242858.5 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN113838874A 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 陈伟;陈鑫;朱书纬;潜垚;李澈 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G06F3/041;G02F1/1362
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制造方法,包括Array侧基板玻璃,Array侧基板玻璃上依次设有MetalⅠ金属层、栅极绝缘层、有缘层、刻蚀阻挡层、MetalⅡ金属层,MetalⅡ金属层上沉积有第一保护层ITO,第一保护层ITO上依次设有绝缘层Ⅰ、有机平坦层、MetalⅢ触控金属层,有机平坦层以及MetalⅢ触控金属层沉积有第二保护层ITO,第二保护层ITO上依次设有带有VA孔的绝缘层Ⅱ、公共电极层ITO、带有CH孔的绝缘层Ⅲ以及像素电极层ITO,公共电极层ITO通过VA孔与MetalⅢ触控金属层搭接,像素电极层ITO通过CH孔与MetalⅡ金属层搭接。本发明在现有的阵列基板设计基础之上,在MetalⅡ金属层和MetalⅢ触控金属层表面形成一道ITO,既可作为下层金属的保护层,又不影响像素电极与金属层的正常搭接。
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建华佳彩有限公司,未经福建华佳彩有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202111242858.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top