[发明专利]一种金属化合物薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 202111123778.8 | 申请日： | 2021-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN113862622B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 马迎功;郭冰亮;武树波;赵晨光;周麟;宋玲彦;杨健;甄梓杨;翟洪涛;段俊雄;师帅涛;许文学;张璐;崔亚欣 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/58;C23C14/54;C23C14/02;C23C14/06 |
| 代理公司： | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人： | 孙向民;廉莉莉 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种金属化合物薄膜的制备方法，包括：步骤1：将待沉积薄膜的晶圆放入反应腔室中基座上方的托盘上；步骤2：向反应腔室内通入惰性气体和工艺气体的混合气体，对反应腔室中的金属靶材施加脉冲直流功率，使该混合气体形成等离子体，该等离子体轰击金属靶材，以在晶圆上形成金属化合物薄膜；同时对基座施加射频偏压功率，以调整金属化合物薄膜的应力。本发明在步骤2中，对基座施加射频偏压功率，以在晶圆上形成金属化合物薄膜时调整金属化合物薄膜的应力。解决了薄膜受力弯曲，甚至脱落的问题，进而提升了器件的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 化合物 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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