[发明专利]掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置在审

专利信息
申请号: 202111065630.3 申请日: 2021-09-10
公开(公告)号: CN113789497A 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 白珊珊;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李莎
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开提供一种掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置,掩膜版组件包括:掩膜框架,包括内侧凹槽区域和外侧区域,所述外侧区域具有第一厚度,所述内侧凹槽区域具有第二厚度;掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述内侧凹槽区域,具有第三厚度,所述掩膜版在所述掩膜框架上的正投影覆盖所述内侧凹槽区域;其中,所述第一厚度大于或等于所述第二厚度与所述第三厚度之和;定位掩膜版,固定于所述掩膜框架的所述外侧区域,并设置有定位孔,所述定位孔用于将所述掩膜版与所述显示基板进行对准。根据本公开,能够减小掩膜版拉伸的位置偏移和提高定位孔的对准精度,减小掩膜版的开口设计容差,有利于实现显示装置的窄边设计。
搜索关键词: 掩膜版 组件 及其 制造 方法 显示 显示装置
【主权项】:
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