[发明专利]一种钙钛矿薄膜制备方法

摘要

本发明公开了一种钙钛矿薄膜制备方法，包括：准备ITO基片、制备空穴传输层、空穴/钙钛矿界面修饰层、钙钛矿薄膜活性层等；本发明所述的钙钛矿薄膜制备方法无需使用前驱体溶液和转化溶液，所以不存在组分反应不完全和碘化铅残留的问题，且没有其他附加产物的残留。该方法通过抽气替代反溶剂的作用，使钙钛矿湿膜中的溶剂快速挥发，无需对环境有害的、滴加技术要求高的反溶剂，并且抽气操作简单，对湿膜中溶剂抽取均匀，可制备出拥有大尺寸晶粒的均匀钙钛矿薄膜。真空条件的控制也更易于复刻，制备薄膜重复性更佳。