[发明专利]一种两步烧结制备高强高导热氮化硅陶瓷的方法有效
申请号: | 202110984168.0 | 申请日: | 2021-08-25 |
公开(公告)号: | CN113636844B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 秦明礼;王月隆;田建军;吴昊阳;贾宝瑞;张一铭;章林;曲选辉 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C04B35/584 | 分类号: | C04B35/584;C04B35/64 |
代理公司: | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人: | 张仲波 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明属于陶瓷制备领域,具体涉及一种两步烧结制备高强高导热氮化硅陶瓷的方法。该方法是将氮化硅粉体和烧结助剂按一定比例与有机溶剂混合后,经过造粒、压制、脱脂后,首先在低温、常压、通氮气条件下预处理1~5h,随后在高温、0.9~10MPa氮气压力下进行烧结。在第一步预处理中,根据氮化硅粉体氧含量调节氧化镁烧结助剂含量,利用氧化镁与氮化硅粉体表面二氧化硅低温反应特性,烧结前降低坯体氧含量,再进行第二步气压烧结。与未经过预处理的烧结体相比,经过两步烧结的氮化硅陶瓷具有更高的致密度,总氧含量和第二相含量有明显减少,可制备热导率大于90W/m·K,抗弯强度大于750MPa的氮化硅陶瓷。 | ||
搜索关键词: | 一种 烧结 制备 高强 导热 氮化 陶瓷 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110984168.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。