[发明专利]一种两步烧结制备高强高导热氮化硅陶瓷的方法有效

专利信息
申请号: 202110984168.0 申请日: 2021-08-25
公开(公告)号: CN113636844B 公开(公告)日: 2022-11-18
发明(设计)人: 秦明礼;王月隆;田建军;吴昊阳;贾宝瑞;张一铭;章林;曲选辉 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C04B35/584 分类号: C04B35/584;C04B35/64
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 烧结 制备 高强 导热 氮化 陶瓷 方法
【权利要求书】:

1.一种两步烧结制备高强高导热氮化硅陶瓷的方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)将氮化硅粉体、烧结助剂和有机溶剂混合均匀,其氮化硅粉体与烧结助剂的质量比为95~90:10~5。

(2)将步骤(1)中混合料进行喷雾造粒,得到球形造粒粉。

(3)将步骤(2)中造粒粉称量、模压、等静压,经脱脂后再进行两步烧结。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述氮化硅粉体金属杂质含量小于1wt%,α相含量大于90wt%,氧含量为0.6~2.0wt%。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述烧结助剂为稀土氧化物和碱土金属氧化物混合;其中稀土氧化物为氧化镱、氧化钇、氧化铌或氧化镧中的一种,其含量是氮化硅粉体的3~6wt%;碱土金属氧化物为氧化镁,其含量是氮化硅粉体氧含量的2.5~4倍。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述的造粒粉粒径为30~120μm。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中所述两步烧结包括:第一步将脱脂后坯体在1300℃~1450℃常压预处理1~5h,并伴有流动的氮气;第二步是在1800℃~1950℃、0.9~10MPa氮气压力下进行高温烧结5~20h。

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