[发明专利]一种二极管生产加工用刻蚀装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202110941681.1 申请日: 2021-08-17
公开(公告)号: CN113823583A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 华铁军;黄春城 申请(专利权)人: 江苏海创微电子有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 安徽致至知识产权代理事务所(普通合伙) 34221 代理人: 秦玉霞
地址: 224000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种二极管生产加工用刻蚀装置及其使用方法,包括调整机构和静电机构,承接内筒外圈的静电机构环绕传动机构进行螺旋旋转,利用外接触件与拨动排列轴进行接触,二者之间摩擦产生静电,因外接触件的环形阵列开设,使其成为一个类圆状,从而产生的静电形成一类圆状电场,产生的类圆形静电场直径大于刻蚀衬底的直径,使其能够对刻蚀衬底上的二极管进行限位,产生的静电场通过外伸横杆对其进行吸引,使产生的静电场的边缘高度提升,使整体静电场成为类倒漏斗状,对湿法刻蚀时的化学反应生成的物质进行吸附,且能够对密闭器皿中的杂质进行阻隔,使刻蚀衬底上的二极管接触杂质减少。
搜索关键词: 一种 二极管 生产 工用 刻蚀 装置 及其 使用方法
【主权项】:
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