[发明专利]一种托盘结构、薄膜沉积装置和方法在审
申请号: | 202110891241.X | 申请日: | 2021-08-04 |
公开(公告)号: | CN115704092A | 公开(公告)日: | 2023-02-17 |
发明(设计)人: | 刘凯;郭泉泳 | 申请(专利权)人: | 中微半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/458;C23C16/54 |
代理公司: | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人: | 南慧荣;徐雯琼 |
地址: | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种托盘结构、薄膜沉积装置和方法,该托盘结构包含:主承载盘,其上表面包括多个向下凹陷部;多个轴承组件,分别设置于所述凹陷部内;多个行星盘,支撑于所述轴承组件上,所述行星盘用于承载待处理晶圆;驱动气体通道,设于主承载盘内,用于提供驱动气体以驱动所述行星盘沿轴承组件转动;清洁气体通道,设于主承载盘内,用于提供清洁气体到所述凹陷部以清洁凹陷部的内部。其优点是:其将主承载盘、行星盘、轴承组件、驱动气体通道和清洁气体通道等相结合,直接或间接地实现了行星盘的自转和公转,有助于提高晶圆的薄膜沉积均匀性,且清洁气体通道保证行星盘底部的环境清洁,避免行星盘和轴承组件转动时产生颗粒污染物污染腔内环境。 | ||
搜索关键词: | 一种 托盘 结构 薄膜 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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