[发明专利]一种托盘结构、薄膜沉积装置和方法

权利要求书

1.一种托盘结构，其特征在于，包含：

主承载盘，其上表面包括多个向下凹陷部；

多个轴承组件，分别设置于所述凹陷部内；

多个行星盘，支撑于所述轴承组件上，所述行星盘用于承载待处理晶圆；

驱动气体通道，设于所述主承载盘内，用于提供驱动气体以驱动所述行星盘沿轴承组件转动；

清洁气体通道，设于所述主承载盘内，用于提供清洁气体到所述凹陷部以清洁所述凹陷部的内部。

2.如权利要求1所述的托盘结构，其特征在于，

所述驱动气体通道包含多条用于向凹陷部提供驱动气体的驱动气体流动通道和用于凹陷部排出驱动气体的驱动气体排气通道，所述驱动气体流动通道和驱动气体排气通道的数量与所述凹陷部的数量相同；

和/或，所述清洁气体通道包含多条用于向凹陷部提供清洁气体的清洁气体流动通道和用于凹陷部排出清洁气体的清洁气体排气通道，所述清洁气体流动通道和清洁气体排气通道的数量与所述凹陷部的数量相同。

3.如权利要求2所述的托盘结构，其特征在于，

所述驱动气体流动通道和驱动气体排气通道与所述凹陷部斜向连通；

和/或，所述清洁气体流动通道和清洁气体排气通道沿垂直于行星盘切线方向与凹陷部连通。

4.一种薄膜沉积装置，其特征在于，包含：

反应室；

主承载盘，位于所述反应室内部，其上表面包括多个向下凹陷部；

多个轴承组件，分别设置于所述凹陷部内；

多个行星盘，支撑于所述轴承组件上，所述行星盘用于承载待处理晶圆；

第一驱动模块，用于驱动所述主承载盘转动；

第二驱动模块，其包含驱动气体通道，设于所述主承载盘内，所述驱动气体通道用于提供驱动气体以驱动所述行星盘沿轴承组件转动；

清洁气体通道，设于所述主承载盘内，用于提供清洁气体到所述凹陷部以清洁所述凹陷部的内部。

5.如权利要求4所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述行星盘外侧设置有多个叶轮转片，第二驱动模块提供的驱动气体出气口喷出的气体朝向叶轮转片，使所述驱动气体推动所述行星盘沿轴承组件转动。

6.如权利要求5所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述轴承组件包含：

环形的上轴承滑盖，与所述行星盘的底部连接；

环形的下轴承滑轨，固定于所述主承载盘上；

若干个滚珠，设置于所述上轴承滑盖和下轴承滑轨之间，所述上轴承滑盖和下轴承滑轨将所述滚珠限制在两者的包覆范围内。

7.如权利要求5所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述清洁气体通道用于提供清洁气体，清洁气体通道的出气口朝向的轴承组件侧壁区域和凹陷部侧壁之间的空间形成清洁气体凹槽，所述清洁气体通道与清洁气体凹槽连通。

8.如权利要求4所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述轴承组件与若干个叶轮转片连接，所述第二驱动模块提供的驱动气体出气口喷出的气体朝向叶轮转片，使所述驱动气体推动所述轴承组件转动进而带动所述行星盘转动。

9.如权利要求8所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述轴承组件包含：

环形的上轴承滑盖，与所述行星盘的底部连接，各个所述叶轮转片与所述上轴承滑盖连接；

环形的下轴承滑轨，固定于所述主承载盘上；

若干个滚珠，设置于所述上轴承滑盖和下轴承滑轨之间，上轴承滑盖和下轴承滑轨将所述滚珠限制在两者的包覆范围内。

10.如权利要求8所述的薄膜沉积装置，其特征在于，

所述清洁气体通道用于提供清洁气体，清洁气体通道的出气口朝向的行星盘侧壁区域和凹陷部侧壁之间的空间形成清洁气体凹槽，所述清洁气体通道与清洁气体凹槽连通。