[发明专利]自停止性抛光组合物及用于块状氧化物平坦化的方法在审
| 申请号： | 202110855832.1 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN113637412A | 公开（公告）日： | 2021-11-12 |
| 发明（设计）人： | A.W.海恩斯;张柱然;李常怡;林越;崔骥;S.布罗斯南;南哲祐 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/04;C09K3/14;H01L21/3105 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及自停止性抛光组合物及用于块状氧化物平坦化的方法。具体地说，本发明提供了包含研磨剂、自停止剂、水性载剂及任选地阳离子型聚合物的化学机械抛光组合物，而且，提供了适用于抛光基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 停止 抛光 组合 用于 块状 氧化物 平坦 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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