[发明专利]双面磁控溅射真空镀膜机及其真空镀膜方法

摘要

本发明提供了一种双面磁控溅射真空镀膜机，包括具有真空腔的真空腔体及设置于真空腔的放卷机构、收卷机构、第一溅射靶单元、第二溅射靶单元、第一冷却鼓、第二冷却鼓、第一离子源和第二离子源。第一冷却鼓和第二冷却鼓的数量相同且交替隔开布置，每个第一冷却鼓的旁边设有一个第一溅射靶单元，每个第二冷却鼓的旁边设有一个第二溅射靶单元；放卷机构与收卷机构之间的薄膜从第一冷却鼓与第一溅射靶单元之间的间隙绕过第一冷却鼓和从第二冷却鼓与第二溅射靶单元之间的间隙绕过第二冷却鼓，第一离子源和第二离子源各位于放卷机构和处于起始位置的第一冷却鼓之间，以实现对薄膜进行交替且重复的双面镀膜的目的。另，本发明还公开了一种真空镀膜方法。