[发明专利]双面磁控溅射真空镀膜机及其真空镀膜方法

说明书

本发明提供了一种双面磁控溅射真空镀膜机，包括具有真空腔的真空腔体及设置于真空腔的放卷机构、收卷机构、第一溅射靶单元、第二溅射靶单元、第一冷却鼓、第二冷却鼓、第一离子源和第二离子源。第一冷却鼓和第二冷却鼓的数量相同且交替隔开布置，每个第一冷却鼓的旁边设有一个第一溅射靶单元，每个第二冷却鼓的旁边设有一个第二溅射靶单元；放卷机构与收卷机构之间的薄膜从第一冷却鼓与第一溅射靶单元之间的间隙绕过第一冷却鼓和从第二冷却鼓与第二溅射靶单元之间的间隙绕过第二冷却鼓，第一离子源和第二离子源各位于放卷机构和处于起始位置的第一冷却鼓之间，以实现对薄膜进行交替且重复的双面镀膜的目的。另，本发明还公开了一种真空镀膜方法。

技术领域

本发明涉及真空镀膜领域，尤其涉及一种能实现双面交替重复镀膜的双面磁控溅射真空镀膜机及真空镀膜方法。

背景技术

磁控溅射镀膜是指：将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。

其中，在磁控溅射镀膜中，离不开磁控溅射真空镀膜机的使用，以借助磁控溅射真空镀膜机的真空腔体，为设置于真空腔体内的溅射靶单元创造真空环境，确保卷状的薄膜镀膜的可靠性。

目前，在现有的磁控溅射真空镀膜机中，它一次只能完成薄膜的一面镀膜，当要完成薄膜的另一面镀膜时，此时需要将薄膜从真空腔体内移出，以对调薄膜的位置，再将对调位置的薄膜移入真空腔体内进行镀膜，因而实现薄膜的双面镀膜的目的。即是说，薄膜的双面镀膜是分两次完成，且在完成双面镀膜的过程中需要将薄膜移出真空腔体外，故薄膜容易受周围环境污染而影响质量，另一方面增加抽真空时间而影响效率。

另，尽管现在也有真空镀膜机能一次性实现薄膜的双面镀膜，但是，它不能实现双面交替重复镀膜的功能。

因此，亟需一种能实现双面交替重复镀膜以确保质量和提高效率的双面磁控溅射真空镀膜机及其真空镀膜方法来克服上述的缺陷。

发明内容

本发明的一目的在于提供一种能实现双面交替重复镀膜以确保质量和提高效率的双面磁控溅射真空镀膜机。

本发明的另一目的在于提供一种能实现双面交替重复镀膜以确保质量和提高效率的真空镀膜方法。

为实现上述目的，本发明的双面磁控溅射真空镀膜机包括具有真空腔的真空腔体及设置于所述真空腔中的放卷机构、收卷机构、第一溅射靶单元、第二溅射靶单元、第一冷却鼓、第二冷却鼓、第一离子源和第二离子源。所述放卷机构用于放卷薄膜，所述收卷机构用于收卷镀膜后的薄膜；所述第一冷却鼓和第二冷却鼓两者的数量相同且呈交替隔开的布置，每个所述第一冷却鼓的旁边设有一个所述第一溅射靶单元，每个所述第二冷却鼓的旁边设有一个所述第二溅射靶单元；所述放卷机构与所述收卷机构之间的薄膜从所述第一冷却鼓与所述第一溅射靶单元之间的间隙绕过所述第一冷却鼓和从所述第二冷却鼓与所述第二溅射靶单元之间的间隙绕过所述第二冷却鼓，所有所述第一冷却鼓与薄膜的一面抵接，所有所述第二冷却鼓与薄膜相对的另一面抵接；所述第一离子源和第二离子源各位于所述放卷机构和处于起始位置的第一冷却鼓之间，处于起始位置的第一冷却鼓与所述放卷机构之间的薄膜从所述第一离子源和第二离子源之间的间隙穿过。

较佳地，所述放卷机构和收卷机构沿所述真空腔体的前后方向彼此对齐，且所述放卷机构和收卷机构两者还与所述真空腔的右腔壁相邻设，所述第一冷却鼓沿所述真空腔体的前后方向与所述第二冷却鼓呈交替隔开的布置，所述第一冷却鼓和第二冷却鼓还各自远离所述真空腔的右腔壁，所述第一离子源和第二离子源与所述真空腔的后腔壁相邻。

较佳地，所述第一冷却鼓沿所述真空腔体的前后方向与所述第二冷却鼓彼此错位，所述第一冷却鼓远离所述真空腔的左腔壁，所述第二冷却鼓与所述真空腔的左腔壁相邻设，所述第一溅射靶单元位于所述第一冷却鼓的右侧的旁边，所述第二溅射靶单元位于所述第二冷却鼓的左侧的旁边。