[发明专利]双面磁控溅射真空镀膜机及其真空镀膜方法

权利要求书

1.一种双面磁控溅射真空镀膜机，包括具有真空腔的真空腔体及设置于所述真空腔中的放卷机构和收卷机构，所述放卷机构用于放卷薄膜，所述收卷机构用于收卷镀膜后的薄膜，其特征在于，所述双面磁控溅射真空镀膜机还包括设置于所述真空腔中的第一溅射靶单元、第二溅射靶单元、第一冷却鼓和第二冷却鼓、第一离子源及第二离子源，所述第一冷却鼓和第二冷却鼓两者的数量相同且呈交替隔开的布置，每个所述第一冷却鼓的旁边设有一个所述第一溅射靶单元，每个所述第二冷却鼓的旁边设有一个所述第二溅射靶单元，所述放卷机构与所述收卷机构之间的薄膜从所述第一冷却鼓与所述第一溅射靶单元之间的间隙绕过所述第一冷却鼓和从所述第二冷却鼓与所述第二溅射靶单元之间的间隙绕过所述第二冷却鼓，所有所述第一冷却鼓与薄膜的一面抵接，所有所述第二冷却鼓与薄膜相对的另一面抵接，所述第一离子源和第二离子源各位于所述放卷机构和处于起始位置的第一冷却鼓之间，处于起始位置的第一冷却鼓与所述放卷机构之间的薄膜从所述第一离子源和第二离子源之间的间隙穿过。

2.根据权利要求1所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述放卷机构和收卷机构沿所述真空腔体的前后方向彼此对齐，且所述放卷机构和收卷机构两者还与所述真空腔的右腔壁相邻设，所述第一冷却鼓沿所述真空腔体的前后方向与所述第二冷却鼓呈交替隔开的布置，所述第一冷却鼓和第二冷却鼓还各自远离所述真空腔的右腔壁，所述第一离子源和第二离子源与所述真空腔的后腔壁相邻。

3.根据权利要求2所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述第一冷却鼓沿所述真空腔体的前后方向与所述第二冷却鼓彼此错位，所述第一冷却鼓远离所述真空腔的左腔壁，所述第二冷却鼓与所述真空腔的左腔壁相邻设，所述第一溅射靶单元位于所述第一冷却鼓的右侧的旁边，所述第二溅射靶单元位于所述第二冷却鼓的左侧的旁边。

4.根据权利要求2所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，还包括设置于所述真空腔中并位于所述放卷机构与处于起始位置的第一冷却鼓之间的放卷导辊组，所述放卷导辊组与所述真空腔的后腔壁相邻设。

5.根据权利要求4所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述放卷导辊组包含放卷共用辊单元、第一放卷分支辊单元和第二放卷分支辊单元，所述放卷共用辊单元与处于起始位置的第一冷却鼓邻设，所述第一离子源和第二离子源与所述放卷共用辊单元邻设，所述第一放卷分支辊单元和第二放卷分支辊单元各与所述放卷机构邻设，所述放卷机构与处于起始位置的第一冷却鼓之间的薄膜选择性地绕设于所述放卷共用辊单元和第一放卷分支辊单元或绕设于所述放卷共用辊单元和第二放卷分支辊单元。

6.根据权利要求2所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，还包括设置于所述真空腔中并位于所述收卷机构与处于终止位置的第二冷却鼓之间的收卷导辊组，所述收卷导辊组与所述真空腔的前腔壁相邻设。

7.根据权利要求6所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述收卷导辊组包含收卷共用辊单元、第一收卷分支辊单元和第二收卷分支辊单元，所述收卷共用辊单元与处于终止位置的第二冷却鼓邻设，所述第一收卷分支辊单元和第二收卷分支辊单元各与所述收卷机构邻设，所述收卷机构与处于终止位置的第二冷却鼓之间的薄膜选择性地绕设于所述收卷共用辊单元和第一收卷分支辊单元或绕设于所述收卷共用辊单元和第二收卷分支辊单元。

8.根据权利要求1所述的双面磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，所述真空腔为方形腔。

9.一种使用权利要求1至8任一项所述的双面磁控溅射真空镀膜机的真空镀膜方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)将放卷机构所放卷的薄膜呈依次且交替地绕过所有的第一冷却鼓和所有的第二冷却鼓后再装配于收卷机构处；以及

(2)在放卷机构和收卷机构的配合下，使得薄膜连续地做绕过所有的第一冷却鼓和所有的第二冷却鼓的输送；其中，在薄膜的输送过程中，先由第一离子源和第二离子源各自轰击所对应的薄膜的一面，以增加镀层对薄膜的附着力，再由第一溅射靶单元在第一冷却鼓的配合下对输送中的薄膜的一面进行重复镀膜的同时，由第二溅射靶单元在第二冷却鼓的配合下对输送中的薄膜相对的另一面进行重复镀膜，实现对输送中的薄膜进行交替且重复的双面镀膜。